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ScO2截止面GdscO3晶體基片

發(fā)布時(shí)間:2024-03-23  瀏覽次數(shù):295


GdscO3 (110)晶面的sc02截止面原子力圖

GdScO3基底是原子光滑的(110)晶面GdScO3,其中通過(guò)特殊蝕刻處理晶體表面獲得單位晶胞高度。 通過(guò)反射高能電子衍射和原子力顯微鏡驗(yàn)證,GdScO3膜在晶體表面上的同質(zhì)外延以完美的逐層模式進(jìn)行。 該技術(shù)提供了明確限定的襯底表面,用于這種鈣鈦礦氧化物薄膜的原子調(diào)節(jié)外延生長(zhǎng),

產(chǎn)品名稱

晶體:GdSc03

技術(shù)參數(shù)

結(jié)構(gòu)(4):正交a=5.45b=5.75 c=7.93

熔點(diǎn)℃:2170

密度g/cm36.6

生產(chǎn)方法:提拉法

常規(guī)晶向

常規(guī)尺寸:10x10x0.5mm,5x5x0.5mm

拋光情況:單拋

表面終止:8c02(通過(guò)特殊蝕刻)

表面粗糙度:Ra<5?;

晶體材料咨詢電話:199-5653-2471王經(jīng)理

晶體制備相關(guān)設(shè)備   



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