發(fā)布時(shí)間:2023-11-10 瀏覽次數(shù):617
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設(shè)備簡(jiǎn)介: 化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法,是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng),適用于各大高校材料實(shí)驗(yàn)室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域;
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高溫CVD一體機(jī)由以下幾部分組成。
▲燒結(jié)系統(tǒng);▲電控系統(tǒng);▲上蓋開啟系統(tǒng);▲真空系統(tǒng);
配置詳情
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設(shè)備特點(diǎn):
1、控制穩(wěn)定可靠,操作方便。 2、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習(xí)模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。 3、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果更好,節(jié)能降耗。 4、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能,可保存燒結(jié)的重要參數(shù),時(shí)長(zhǎng)達(dá)30天之久(每天開機(jī)8小時(shí))。 5、配方功能,可預(yù)存配方100條以上。 6、五個(gè)溫區(qū)獨(dú)立控制,使客戶燒結(jié)工藝更加復(fù)雜多樣。 7、聯(lián)網(wǎng)功能,通過RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統(tǒng)與上位機(jī)相連(上位機(jī)需安裝相應(yīng)軟件)。
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產(chǎn)品型號(hào) |
NBD-T1200-100T5G4F |
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供電電源 |
三相380V 50HZ |
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額定功率 |
10KW |
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測(cè)溫元件類型 |
K型熱電偶 200mm |
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最高溫度 |
1150℃ |
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加熱溫區(qū)尺寸 |
Φ150*1135mm |
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爐管尺寸 |
Φ100*1600mm |
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爐體尺寸 |
長(zhǎng)1900*高1250*深900mm |
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推薦升溫速率 |
10℃/min |
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重量 |
350kg | ||||||
設(shè)備細(xì)節(jié) |
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控制系統(tǒng) |
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1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置;
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溫度精度 |
±1℃ |
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流程控制畫面 |
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服務(wù)支持 |
1年質(zhì)保,提供終身支持(保修范圍內(nèi)不包括易耗部件,例如爐管和O形圈等) |
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