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五溫區(qū)CVD一體機(jī)

發(fā)布時(shí)間:2023-11-10  瀏覽次數(shù):617

設(shè)備簡(jiǎn)介:

  化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或米材料的方法,是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng),適用于各大高校材料實(shí)驗(yàn)室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域;



  


高溫CVD一體機(jī)由以下幾部分組成。

▲燒結(jié)系統(tǒng);▲電控系統(tǒng);▲上蓋開啟系統(tǒng);▲真空系統(tǒng);



配置詳情

設(shè)備特點(diǎn):

1、控制穩(wěn)定可靠,操作方便。

2、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習(xí)模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。

3、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果更好,節(jié)能降耗。

4、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能,可保存燒結(jié)的重要參數(shù),時(shí)長(zhǎng)達(dá)30天之久(每天開機(jī)8小時(shí))。

5、配方功能,可預(yù)存配方100條以上。

6、五個(gè)溫區(qū)獨(dú)立控制,使客戶燒結(jié)工藝更加復(fù)雜多樣。

7、聯(lián)網(wǎng)功能,通過RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統(tǒng)與上位機(jī)相連(上位機(jī)需安裝相應(yīng)軟件)。

產(chǎn)品型號(hào)

NBD-T1200-100T5G4F

供電電源

三相380V 50HZ

額定功率

10KW

測(cè)溫元件類型

K型熱電偶 200mm

最高溫度

1150℃

加熱溫區(qū)尺寸

Φ150*1135mm

爐管尺寸

Φ100*1600mm

爐體尺寸

長(zhǎng)1900*高1250*深900mm

推薦升溫速率

10℃/min

重量

350kg

設(shè)備細(xì)節(jié)

       

控制系統(tǒng)

 

1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置;
  2、可預(yù)約燒結(jié),實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié);
  3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù),并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無(wú)紙記錄;
  4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控,實(shí)時(shí)觀測(cè)設(shè)備狀態(tài);
  5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正。

溫度精度

±1℃

流程控制畫面


服務(wù)支持

1年質(zhì)保,提供終身支持(保修范圍內(nèi)不包括易耗部件,例如爐管和O形圈等) 


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