設(shè)備簡(jiǎn)介：

 化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用非常廣泛的用來(lái)沉積薄膜材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng)，適用于各大高校材料實(shí)驗(yàn)室、科研院所、環(huán)?？茖W(xué)等領(lǐng)域。

設(shè)備宣傳視頻

設(shè)備特點(diǎn)：

 1、采用高純氧化鋁材質(zhì)爐管，耐腐蝕耐高溫性能優(yōu)越；

 2、高純度Al2O3纖維耐火保溫材料，保溫效果突出，有效地降低了設(shè)備功耗；

 3、爐體采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)工藝，有助于快速降低殼體表面溫度；

 4、采用智能PID模糊溫度控制，7英寸觸摸屏集中操控，可直觀顯示“時(shí)間-溫度”曲線；

設(shè)備名稱

高溫CVD系統(tǒng)

T-max

電源

單相220V 50HZ

額定功率

6KW

S型熱電偶φ8*205mm

1450℃

第一個(gè)溫度區(qū)：Φ100*225mm  第二個(gè)溫度區(qū)：Φ100*225mm

Φ100*1200mm

長(zhǎng)1414m×高720mm×深514mm

1℃/H-20℃/Min

350kg

控制系統(tǒng)

 1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置：動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線，設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設(shè)置；

 2、可預(yù)約燒結(jié)，實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié)；

 3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù)，并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無(wú)紙記錄；

 4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控，實(shí)時(shí)觀測(cè)設(shè)備狀態(tài)；

 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正

溫度精度

±1℃

加熱元件

抗酸耐腐性能優(yōu)越的高純硅碳棒

密封系統(tǒng)

真空度：10Pa（機(jī)械泵）

壓力測(cè)量與監(jiān)控

供氣系統(tǒng)

凈重

350kg

設(shè)備使用注意事項(xiàng)

 1、設(shè)備爐膛溫度≥300℃時(shí)，禁止打開(kāi)爐膛，避免受到傷害；

 2、爐膛連續(xù)使用產(chǎn)生的輕微裂紋屬于正?，F(xiàn)象，不影響設(shè)備的正常使用；

服務(wù)支持

一年有限保修，提供終身支持（保修范圍內(nèi)不包括易耗部件，例如處理管和O形圈，請(qǐng)?jiān)谙旅娴南嚓P(guān)產(chǎn)品處訂購(gòu)更換件。）