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InAs(砷化銦)晶體基片

發(fā)布時(shí)間:2024-03-30  瀏覽次數(shù):370

產(chǎn)品名稱

砷化銦(InAs)晶體

技術(shù)參數(shù)

晶體結(jié)構(gòu):立方晶系

晶格常數(shù):a=5.4505 ?

摻雜類型:不摻雜

導(dǎo)電類型:N

載流子濃度:2 ~ 5E16 / cm3 

遷移率:>18500cm2/V.S 

生長方法:CZ

產(chǎn)品規(guī)格

常規(guī)晶向: 

常規(guī)尺寸:2"x0.5mm  10x10x0.5mm

拋光情況:單拋  雙拋

表面粗糙度:<15A

注:尺寸及方向可按照客戶要求定做。

晶體缺陷

人工生長單晶有可能存在晶體內(nèi)部缺陷。

標(biāo)準(zhǔn)包裝

1000級(jí)超凈室,100級(jí)超凈袋或單片盒封裝。

晶體制備相關(guān)設(shè)備