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化學(xué)氣相沉積CVD一體機

發(fā)布時間:2021-04-14  瀏覽次數(shù):2473

設(shè)備簡介:

化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或米材料的方法,是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng),適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域;


 

 

 

 

 

 

 

技術(shù)參數(shù) 

 

1.爐體與控制系統(tǒng)集成一體化,使試驗方便快捷直觀。

2.配置浮子流量計或質(zhì)量流量計混氣氣路,可以單獨設(shè)置氣體流量。

3.精確PID程序多段控制,實現(xiàn)不同工藝多段溫度時間監(jiān)控。

4.爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果極佳。

5.配備機械泵或分子真空泵,可以實現(xiàn)不同的真空條件。

產(chǎn)品型號


NBD-T1700-80TIG3Z

工作溫度


≤1650

加熱區(qū)尺寸


310mm

恒溫區(qū)尺寸
220mm

升溫速率


20/min

電氣規(guī)格


AC 220V  4.5KW

控制系統(tǒng)

1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置;
2、可預(yù)約燒結(jié),實現(xiàn)無人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié);
3、實時顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù),并可導(dǎo)出實現(xiàn)無紙記錄;
4、具有實現(xiàn)遠程操控,實時觀測設(shè)備狀態(tài);
5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結(jié)全程進行非線性修正。

氣體系統(tǒng)(可選購)


流量計類型

浮子流量計

質(zhì)量流量計

管道示意圖

 

 

進氣接口數(shù)量

2、3、4(多路可選)

流量范圍

20-200/60-600l/min(多量程可選)

50/100/200sccm(多量程可選)

工作壓差范圍

0-0.15MPa

低真空系統(tǒng)(可選購)

真空泵型號

NBD-1.5C

NBD-3C

NBD-4C

抽氣速率

1L/s

3L/s

4L/s

進排氣口尺寸

Φ8mm寶塔接頭

Φ8mm寶塔接頭

KF16/25

極限壓力

1000Pa

100Pa

10Pa

工作溫度

5-40

電氣規(guī)格

AC220V

分子泵高真空系統(tǒng)

(可選購)

分子泵系統(tǒng)型號

NBD-103(A)

NBD-103(B)

NBD-103(C)

抽氣速率

110L/s

600L/s

700L/s

真空測量計

復(fù)合真空計

極限壓力

10^-3Pa

10^-4Pa

10^-5Pa

工作溫度

5-40

電氣規(guī)格

AC 220V

AC 220V

AC 380V

* 支持非標(biāo)定做,更多型號,歡迎來電垂詢400-000-3746

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