發(fā)布時間:2021-04-14 瀏覽次數(shù):2473
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設(shè)備簡介: 化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法,是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng),適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域;
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技術(shù)參數(shù):
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1.爐體與控制系統(tǒng)集成一體化,使試驗方便快捷直觀。 2.配置浮子流量計或質(zhì)量流量計混氣氣路,可以單獨設(shè)置氣體流量。 3.精確PID程序多段控制,實現(xiàn)不同工藝多段溫度時間監(jiān)控。 4.爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果極佳。 5.配備機械泵或分子真空泵,可以實現(xiàn)不同的真空條件。 |
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產(chǎn)品型號 |
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NBD-T1700-80TIG3Z |
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工作溫度 |
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≤1650℃ |
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加熱區(qū)尺寸 |
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310mm |
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恒溫區(qū)尺寸 |
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220mm | ||||||||
升溫速率 |
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≤20℃/min |
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電氣規(guī)格 |
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AC 220V 4.5KW |
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控制系統(tǒng) |
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1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置; |
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氣體系統(tǒng)(可選購) |
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流量計類型 |
浮子流量計 |
質(zhì)量流量計 |
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管道示意圖 |
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進氣接口數(shù)量 |
2、3、4(多路可選) |
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流量范圍 |
20-200/60-600l/min(多量程可選) |
50/100/200sccm(多量程可選) |
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工作壓差范圍 |
0-0.15MPa |
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低真空系統(tǒng)(可選購) |
真空泵型號 |
NBD-1.5C |
NBD-3C |
NBD-4C |
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抽氣速率 |
1L/s |
3L/s |
4L/s |
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進排氣口尺寸 |
Φ8mm寶塔接頭 |
Φ8mm寶塔接頭 |
KF16/25 |
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極限壓力 |
1000Pa |
100Pa |
10Pa |
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工作溫度 |
5-40℃ |
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電氣規(guī)格 |
AC220V |
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分子泵高真空系統(tǒng) (可選購) |
分子泵系統(tǒng)型號 |
NBD-103(A) |
NBD-103(B) |
NBD-103(C) |
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抽氣速率 |
110L/s |
600L/s |
700L/s |
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真空測量計 |
復(fù)合真空計 |
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極限壓力 |
10^-3Pa |
10^-4Pa |
10^-5Pa |
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工作溫度 |
5-40℃ |
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電氣規(guī)格 |
AC 220V |
AC 220V |
AC 380V |
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