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    PECVD等離子體系統(tǒng) 當(dāng)前位置:網(wǎng)站首頁(yè) > 產(chǎn)品展示

雙爐膛滑軌式PECVD

發(fā)布時(shí)間:2020-07-25  瀏覽次數(shù):3652

設(shè)備簡(jiǎn)介:

雙溫區(qū)的PECVD管式爐系統(tǒng),組成部分為500W的射頻發(fā)生器、可定位的獨(dú)立滑動(dòng)式燒結(jié)爐、高精度質(zhì)量流量混合系統(tǒng)、穩(wěn)定防反油真空系統(tǒng)。此款PECVD可用于生長(zhǎng)納米線或用CVD方法來(lái)制作各種薄膜。



                         

 

                            



配置詳情


主要特點(diǎn):

1. 清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;
2. 上開(kāi)啟式結(jié)構(gòu),方便觀察試樣;
3. 產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式,觸摸屏,數(shù)字化顯示;
4. 可通過(guò)爐體滑動(dòng)來(lái)達(dá)到快速升溫和快速降溫的效果;
5. 穩(wěn)定的射頻電源,均勻的溫度分布,提高成膜質(zhì)量;

產(chǎn)品型號(hào)

NBD-PECVD1200-50T2-N

電氣規(guī)格

AC220V 3KW   射頻功率:300500 13.56Mhz

可達(dá)溫度

1200 ℃ (<1小時(shí))

連續(xù)溫度

1100 ℃ (連續(xù))

可達(dá)加熱速率

20 /分鐘

加熱區(qū)長(zhǎng)度

200mm+200mm(兩個(gè)加熱溫區(qū)分別加熱,分體式設(shè)計(jì)使溫度梯度可以達(dá)到極限)

爐管尺寸

Φ50*1800mm

射頻線圈

 

采用多節(jié)點(diǎn)鍍銀的水冷銅線圈,可匹配不同頻率的射頻電源 

控制系統(tǒng)

1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置:動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線,設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設(shè)置;
2、可預(yù)約燒結(jié),實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié);
3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù),并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無(wú)紙記錄;
4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控,實(shí)時(shí)觀測(cè)設(shè)備狀態(tài);
5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正

控溫精度

+/- 1 ℃

加熱元件

Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金

密封系統(tǒng)


真空度:≤10Pa(機(jī)械泵),達(dá)到啟輝條件。

壓力測(cè)量與監(jiān)控

采用數(shù)顯真空計(jì)可直觀顯示設(shè)備的真空度,實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)及效果更加準(zhǔn)確。

供氣系統(tǒng)

采用質(zhì)量流量計(jì)控制,與設(shè)備一體化,方便控制,出廠前已進(jìn)行漏氣測(cè)試工作。

凈重

100KG


設(shè)備使用注意事項(xiàng)

1.設(shè)備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開(kāi)爐膛,避免受到傷害;

2.設(shè)備使用時(shí),爐管內(nèi)壓力不得超過(guò)0.125MPa(絕對(duì)壓力),以防止壓力過(guò)大沖開(kāi)密封法蘭;

3.高真空下使用時(shí)(10的負(fù)3次方Pa),設(shè)備使用溫度不得超過(guò)800℃。

服務(wù)支持

一年有限保修,提供終身支持;


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