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PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

發(fā)布時(shí)間:2017-11-15  瀏覽次數(shù):9822

設(shè)備簡(jiǎn)介:

該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成,采用集中總線控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積,同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積,SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料,尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積。



 

 

 

 

 



配置詳情

 

1. 清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;

2. 上開啟式結(jié)構(gòu),方便觀察試樣;

3. 產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式,觸摸屏,數(shù)字化顯示;

4. 設(shè)備一體化程度高; 

5. 穩(wěn)定的射頻電源,均勻的溫度分布,提高成膜質(zhì)量;

產(chǎn)品型號(hào)

NBD-PECVD1200-80TI

電氣規(guī)格

AC220V    4KW

可達(dá)溫度

1200 ℃

連續(xù)溫度

1150℃

可達(dá)加熱速率

≤  20 ℃/分鐘

射頻電源

300或500W   13.56MHz

爐管尺寸

Φ80*1200mm

沉積示意圖

 

如圖所示:此為該設(shè)備沉積過程中的示意圖

控制系統(tǒng)

 

 1、NBD-101EP嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面,7寸真彩觸屏輸入,智能式人機(jī)對(duì)話模式,實(shí)時(shí)加熱功率顯示,非線性式樣溫度修正;實(shí)驗(yàn)報(bào)告自主生成,實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)無限次導(dǎo)出。

 2、實(shí)驗(yàn)過程更加直觀,操作更加便捷;

 3、具有超溫報(bào)警、斷偶提示、漏電保護(hù)等功能。

溫度精度

+/- 1 ℃

加熱元件

 

Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金

密封系統(tǒng)

 

 

 

真空度:≤10Pa(機(jī)械泵)

壓力測(cè)量與監(jiān)控

 

采用數(shù)顯真空計(jì),可使設(shè)備真空度更加直觀,實(shí)驗(yàn)結(jié)果更加準(zhǔn)確。

供氣系統(tǒng)

 

采用兩路質(zhì)子流量計(jì)精確控制氣體流速,與設(shè)備集成為一體;

凈重

360KG

設(shè)備使用注意事項(xiàng)

1、設(shè)備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開爐膛,避免受到傷害;

2、設(shè)備使用時(shí),爐管內(nèi)壓力不得超過0.125MPa(絕對(duì)壓力),以防止壓力過大造成設(shè)備損壞;

3、真空下使用時(shí),設(shè)備使用溫度不得超過800℃。

   4、供氣鋼瓶?jī)?nèi)部氣壓較高,向爐管內(nèi)通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在選購(gòu)試驗(yàn)用小壓力減壓閥,減壓閥量程為0.01MPa-0.15MPa,使用時(shí)會(huì)更加精確安全。

   5、當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓 相當(dāng),保持在常壓狀態(tài);

   6、高純石英管的長(zhǎng)時(shí)間使用溫度≦1100℃

   7、加熱的實(shí)驗(yàn)時(shí),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若絕對(duì)壓力表讀數(shù)大于0.15MPa,必須立刻打開排氣端閥門,以防意外發(fā)生(如爐 管破裂,法蘭飛出等)

服務(wù)支持

1年質(zhì)保,提供終身支持(保修范圍內(nèi)不包括易耗部件,例如爐管和密封圈等)。 


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