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Ge(鍺)晶體

發(fā)布時間:2024-03-25  瀏覽次數(shù):342


Ge(鍺)主要用途有:制作半導體器件、紅外光學器件及太陽能電池襯底等材料。

產品名稱

Ge晶體基片

技術參數(shù)

晶體結構:立方晶系

晶格常數(shù):5.6754 ?

密度:5.323 g/cm3 

熔點:937.4

介電常數(shù):16.2

熱導率(w/m·k):60.2

摻雜物質:不摻雜;摻Sb;摻InGa;

類型:N  P

電阻率 W·cm>35  0.05  0.05-0.1

EPD:< 4x103/cm2    < 4x103/cm2   < 4x103/cm2  

生長方法:直拉法

產品規(guī)格

常規(guī)晶向:、

晶向公差:±0.5°

常規(guī)尺寸:10x10x0.5mm,10x5x0.5mm,dia2",dia3"

拋光情況:單拋、雙拋

表面粗糙度:< 5A

注:尺寸及方向可按照客戶要求定做。

晶體缺陷

人工生長單晶有可能存在晶體內部缺陷。

標準包裝

1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝

晶體材料咨詢電話:199-5653-2471王經理

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