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    PECVD等離子體系統(tǒng) 當(dāng)前位置：網(wǎng)站首頁(yè) > 產(chǎn)品展示

PECVD系統(tǒng)（集成氣化裝置）

發(fā)布時(shí)間：2022-04-15  瀏覽次數(shù)：3136

設(shè)備簡(jiǎn)介：

該P(yáng)ECVD系統(tǒng)配置高精度全封閉式液體氣化裝置，為表面薄膜沉積實(shí)驗(yàn)提供包含有毒液體在內(nèi)的氣化條件。系統(tǒng)由高穩(wěn)定性射頻電源（200W，13.56MHz）、氣體流量控制系統(tǒng)及真空系統(tǒng)組成，采用NBD-101EP集中總線控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。利用等離子體特性來(lái)控制或影響氣相反應(yīng)和材料表面的化學(xué)反應(yīng)過(guò)程，并在適當(dāng)?shù)臏囟认鲁练e薄膜。PECVD淀積的薄膜具有優(yōu)良的電學(xué)性能、良好的襯底附著性以及極佳的臺(tái)階覆蓋性，正由于這些優(yōu)點(diǎn)使其在超大規(guī)模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。


                         

 

                            


配置詳情


主要特點(diǎn)：

 1. 集成液體氣化系統(tǒng)，可穩(wěn)定提供包括有毒液體在內(nèi)的反應(yīng)氣體條件； 

 2. 清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染；

 3. 上開(kāi)啟式結(jié)構(gòu)，方便觀察試樣；

 4. 產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式，觸摸屏，數(shù)字化顯示；

 5. 設(shè)備一體化程度高； 

 6. 穩(wěn)定的射頻電源，均勻的溫度分布，提高成膜質(zhì)量；

 7.    出色的電磁波屏蔽方案，高效、安全！

設(shè)備型號(hào)

NBD-PE1200-80TID2FY

供電電源

AC220V 50/60HZ

控溫精度

±1℃

觸摸屏尺寸

7英寸

射頻頻率

13.56MHz

射頻功率輸出范圍

0-200W

沉積加熱額定功率

4.0KW

蒸發(fā)器額定功率

1.3KW

伴熱帶額定功率

75W

傳感器類(lèi)型

K型熱電偶

沉積最高溫度

1200℃

沉積額定溫度

1150℃

蒸發(fā)器額定溫度

400℃

伴熱帶額定溫度

150℃

推薦升溫速率

≤10/min

沉積管徑

Φ80mm*1200mm
蒸發(fā)源管徑

Φ50mm*80mm

蒸發(fā)源有效容積

50ml

PECVD 外形尺寸

長(zhǎng)1500×高1280×深760mm

蒸發(fā)器外形尺寸

長(zhǎng)410×高350×深210mm

氣氛條件

混合氣、真空等

機(jī)械泵抽氣速率

16 立方米每小時(shí)

爐腔極限真空度

3~5Pa

法蘭結(jié)構(gòu)

航空鋁快開(kāi)模式；

操作系統(tǒng)

NBD-101EP集中總線控制集成系統(tǒng)，7"全觸摸屏操控，智能模糊PID 控制；智能式人機(jī)對(duì)話模式；

真空測(cè)試

數(shù)字真空計(jì)獲取裝置；

設(shè)備細(xì)節(jié)

 

 

 

控制系統(tǒng)


 1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置：動(dòng)態(tài)顯示設(shè)置曲線，設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設(shè)置；
 2、可預(yù)約燒結(jié)，實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守?zé)Y(jié)工藝曲線燒結(jié)；
 3、實(shí)時(shí)顯示燒結(jié)功率電壓等信息并記錄燒結(jié)數(shù)據(jù)，并可導(dǎo)出實(shí)現(xiàn)無(wú)紙記錄；
 4、具有實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程操控，實(shí)時(shí)觀測(cè)設(shè)備狀態(tài)；
 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結(jié)全程進(jìn)行非線性修正。

部分界面

 

 

凈重

約300KG

設(shè)備使用注意事項(xiàng)

1.射頻匹配器一般處于自動(dòng)匹配狀態(tài)，一般功率需達(dá)到50W以上才能匹配；

2.若采用手動(dòng)匹配，將功率設(shè)到60W左右，手動(dòng)調(diào)諧匹配合適時(shí)，再增加功率

服務(wù)支持

一年有限保修，提供終身支持；


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