上海大學(xué)潘老師帶領(lǐng)課題小組成員蒞臨我公司參觀考察，由我公司創(chuàng)始人徐曉冬教授親自接待。

  潘老師對我公司的PECVD設(shè)備的具體參數(shù)做了詳細了解，對該設(shè)備在演示過程中的出色表現(xiàn)給予了充分肯定。

PECVD簡介：

  該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成，采用集中總線控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時可實現(xiàn)TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積。