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CVD系統(tǒng)HR1200-110TID3F

發(fā)布時間：2018-11-27  瀏覽次數(shù)：4187

設(shè)備簡介：

化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中應用非常廣泛的用來沉積薄膜材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng)，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)?？茖W等領(lǐng)域。

   該CVD系統(tǒng)主要由采用紅外加熱的快速熱處理爐（RTP）、氣體流量控制柜及真空泵組成，升溫速率可達300℃/秒。移動式加熱爐膛，可使熱處理后的樣品直接移動至室溫下。系統(tǒng)內(nèi)置熱疲勞測試功能，可根據(jù)實驗工藝設(shè)置熱疲勞測試參數(shù)，系統(tǒng)將自動運行。



    

 

 

 

 

 



配置詳情

NBD-101E嵌入式操作系統(tǒng)中英文互換圖形界面，7寸真彩觸屏輸入，智能式人機對話模式，非線性式樣溫度修正；

產(chǎn)品型號

NBD-HR1200-110TI

工作溫度

≤1100℃

加熱區(qū)尺寸

200mm

升溫速率

≤100℃/s

電氣規(guī)格

AC 380V  15KW

氣體系統(tǒng)（可選購）

流量計類型

浮子流量計

質(zhì)量流量計

管道示意圖

 

 

進氣接口數(shù)量

2、3、4（多路可選）

流量范圍

20-250/20-800ml/min(多量程可選)

50/100/200sccm(多量程可選)

工作壓差范圍

0-0.15MPa

低真空系統(tǒng)（可選購）

真空泵型號

NBD-1.5C

NBD-3C

NBD-4C

抽氣速率

1L/s

3L/s

4L/s

進排氣口尺寸

Φ8mm寶塔接頭

Φ8mm寶塔接頭

KF16/25

極限壓力

1000Pa

100Pa

10Pa

工作溫度

5-40℃

電氣規(guī)格

AC220V

高真空系統(tǒng)（可選購）

真空泵型號

NBD-103(A)

NBD-103(B)

NBD-103(C)

抽氣速率

110L/s

600L/s

700L/s

真空測量計

復合真空計

極限壓力

10^-3Pa

10^-4Pa

10^-5Pa

工作溫度

5-40℃

電氣規(guī)格

AC 220V

AC 220V

AC 380V

* 支持非標定做，更多型號，歡迎來電垂詢400-000-3746


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